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快速退火爐的應(yīng)用領(lǐng)域及設(shè)備說明

 更新時間:2023-05-19 點擊量:1124
  應(yīng)用領(lǐng)域:
 
  1.快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
 
  2.離子注入/接觸退火;
 
  3.金屬合金;
 
  4.熱氧化處理;
 
  5.化合物合金(砷化鎵、氮化物等);
 
  6.多晶硅退火;
 
  7.太陽能電池片退火;
 
  8.高溫退火;
 
  9.高溫擴(kuò)散。
 
  設(shè)備說明:
 
  快速退火爐主要由真空腔室、加熱室、進(jìn)氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣冷系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成。
 
  真空腔室:真空腔室是快速退火爐的工作空間,晶圓在這里進(jìn)行快速熱處理。
 
  加熱室:加熱室以多個紅外燈管為加熱元件,以耐高溫合金為框架、高純石英為主體。
 
  進(jìn)氣系統(tǒng):真空腔室尾部有進(jìn)氣孔,精確控制的進(jìn)氣量用來滿足一些特殊工藝的氣體需求。
 
  真空系統(tǒng):在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥,可以有效確保腔室真空度,同時避免氣體倒灌污染腔室內(nèi)的被處理工件。
 
  溫度控制系統(tǒng):溫度控制系統(tǒng)由溫度傳感器、溫度控制器、電力調(diào)整器、可編程控制器、PC及各種傳感器等組成。
 
  氣冷系統(tǒng):真空腔室的冷卻是通過進(jìn)氣系統(tǒng)向腔室內(nèi)充入惰性氣體,來加速冷卻被熱處理的工件,滿足工藝使用要求。
 
  水冷系統(tǒng):水冷系統(tǒng)主要包括真空腔室、加熱室、各部位密封圈的冷卻用水。
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